6月10日消息，《捷棉新闻》报道，上海微电子设备（集团）有限公司日前透露，它将在2021-2022年交付首台28nm工艺家用浸没式光刻机。家用光刻机将一举实现从以前的90nm工艺到28nm工艺的突破。据了解，上海微电子设备（集团）有限公司（SMEE）主要致力于半导体设备，泛半导体设备和高端智能设备的开发，设计，制造，销售和技术服务。该公司的设备广泛用于集成电路，高级封装，FPD面板，MEMS，LED和功率器件的制造领域。上海微电子光刻机目前的产品包括IC前端制造SSX600系列光刻机； IC后端先进封装SSB500系列光刻机； LED，MEMS，功率器件制造的SSB300系列光刻机； TFT曝光SSB200系列光刻机。其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机采用具有四倍缩小倍率的投影物镜，一种过程自适应聚焦和水平调节技术以及一种高速，高精度自阻尼六度光学系统。一种具有自由度的工件台掩模台技术，该技术可以满足IC之前制造90nm，110nm，280nm关键层和非关键层光刻工艺的要求。该设备可用于8英寸生产线或12英寸生产线的大规模工业生产。