作为半导体芯片生产过程中最重要的设备，光刻机一直打动着人们的心。实际上，工艺技术越先进，先进的光刻机必不可少。光刻是半导体芯片制造中最耗时和最费钱的环节之一，它决定了芯片的工艺水平。通常所说的XXnm工艺主要取决于光刻机的水平。经过10nm制程，难度变得越来越困难。光刻机也需要升级到EUV级别。 ASML副总裁Anthony Yen日前表示，如果没有EUV光刻机，那么芯片制造商将无法制造工艺低于7nm的芯片。目前，ASML是唯一可以生产EUV光刻机的公司。他们发表这样的声明并不奇怪。毕竟，这是一台价值1.2亿欧元，约10亿台的高端设备。全球半导体制造商必须审视ASML的面孔。台积电没有将EUV光刻机用于第一代7nm工艺，但是很难避免将EUV光刻机用于7nm之后的工艺。从理论上讲，可以通过多次曝光来制造5nm级芯片，但是成本和良率都是一个问题，我不能拒绝EUV光刻机。